ASML plant die breite Anwendung der High‑NA-EUV-Technologie bereits im nächsten Jahr für die Herstellung von Chips mit Transistorgrößen von 1,4 nm und kleiner.
Kurzzusammenfassung Die neue Phase der Miniaturisierung von Mikrochips erfordert den Übergang zu fortgeschritteneren Lithografieverfahren. In den nächsten zwei Jahren soll die Bra...