Chinesische Halbleiterhersteller haben die Regierung gebeten, eine heimische Analogie zu ASML zu schaffen.

Chinesische Halbleiterführer fordern nationale Koordination zur Entwicklung von EUV-Lithografie (2026–2030)

In einem Artikel, veröffentlicht im Rahmen einer Sonderausgabe, haben die Spitzenmanager der größten chinesischen Unternehmen im Mikrofertigungsbereich einen einheitlichen Aktionsplan vorgelegt. Ziel ist es, die Bemühungen um die Entwicklung von Lithographiesystemen zu synchronisieren und damit die technologische Unabhängigkeit des Landes zu erhöhen.

Wer hat gesprochenKurze Zusammenfassung der AnspracheZhao Jingzhun (Naura Technology Group) forderte die Bündelung nationaler Ressourcen zur Integration von Durchbrüchen, die in verschiedenen Institutionen erzielt wurden.Chen Nansyan (Yangtze Memory Technologies Corp.) hielt es für notwendig, ein „chinesisches ASML“ zu schaffen, um die Barriere externer Lieferungen zu überwinden und die Selbstgenügsamkeit zu erhöhen.Liu Weipin (Empyrean Technology) betonte die Bedeutung der Verteilung von Mitteln und Personal zur Schaffung eines integrierten Unternehmens.Repräsentanten führender Halbleiterforschungsinstitutionen identifizierten Schlüsselschwachstellen: Software für die Automatisierung des Designs, Materialien für Siliziumwafer und Gastechnologien.

Warum es jetzt so wichtig ist
* US-Exportbeschränkungen (seit 2020) begrenzen Chinas Zugang zu Technologien unter 7 nm, wodurch EUV-Lithografie kritisch wird.

* ASML ist der einzige weltweit Anbieter von Maschinen für EUV-Lithografie. Die Ausrüstung besteht aus 100 000 Komponenten von 5 000 Lieferanten; ASML montiert sie lediglich zusammen.

* Interne Durchbrüche: China hat bedeutende Erfolge in einzelnen Bereichen erzielt (EUV-Laser, Herstellung von Siliziumwafern, optische Systeme), aber die Integration dieser Technologien bleibt eine komplexe Aufgabe.

Kernbereiche der Arbeit
1. Schaffung einer einheitlichen Plattform für Forschung und Entwicklung fortschrittlicher Geräte und Komponenten.
2. Weiterentwicklung von Software zur Automatisierung des Elektronikdesigns.
3. Verstärkung der Materialwissenschaft: Produktion hochwertiger Siliziumwafer und Gase, die für EUV-Lithografie erforderlich sind.
4. Aufbau nationaler Koordination im Rahmen des Fünfjahresplans (15. Fünfjahrplan).

Bewertung der aktuellen Lage
* China hält etwa 33 % des weltweiten Mikrofertigungsmarktes bei reifen Technologieprozessen (28 nm und höher) ein.

* In diesen Segmenten verfügt das Land über erhebliches Potenzial sowohl im Design als auch in der Produktion.

Abschließend fordern die Experten die Regierung auf, dringend Pläne zur Umsetzung der Integration aller Schlüsselkomponenten der EUV-Lithografie zu entwickeln. Dies würde es ermöglichen, ein eigenes „ASML“ zu schaffen und Chinas Unabhängigkeit in kritischen Mikrofertigungstechnologien sicherzustellen.