China plantiert, den Anteil der inländischen Mikrochip-Produktion bis zum nächsten Jahr auf 70 % zu erhöhen.

China stärkt seine eigene Halbleiterindustrie

Seit Anfang der 2020er Jahre können chinesische Mikrochipfabriken die modernste ausländische Ausrüstung nicht mehr nutzen. Dennoch unterstützt die Regierung des Landes aktiv die Entwicklung des heimischen Sektors, indem sie konkrete Ziele für den Importersatz festlegt.

* Lokalisierungsziele

- Im nächsten Jahr soll der Anteil chinesischer Ausrüstung in der Produktion „reifer“ Technologien (d.h. solcher, die bereits im Massenproduktionsstadium sind) 70 % erreichen.

- Bereits jetzt müssen neue Fabriken mindestens 50 % lokale Ausrüstung nutzen; je höher die Lokalisierung, desto größere Subventionen erhält das Projekt.

* Technologischer Fortschritt

- Für die Herstellung von Chips mit Kanalgröße 14 nm planen chinesische Unternehmen den Übergang unter Verwendung eigener Ausrüstung.

- In der Lithografiebranche verzeichnet man ein erhebliches Wachstum der Aktivitäten heimischer Firmen:

* SMEE beginnt mit der Verifizierung von Expositionsausrüstung auf Basis von Lasern mit einer Wellenlänge von 28 nm (unter Einsatz von Argonfluorid).

* Naura Technology hat die Massenproduktion von Ätzsystemen für 28‑nm-Chips aufgenommen.

* AMEC arbeitet an der Zertifizierung seiner Ausrüstung zur Herstellung von 14‑nm-Mikrochips auf SMIC-Standorten.

* EUV-Scanner und zukünftige Pläne

- Ende des vergangenen Jahres wurde in China ein Prototyp eines EUV-Lithografie-Scanners zusammengebaut, der Komponenten ehemaliger niederländischer ASML-Scanner verwendet.

- Die Produktion von Chips mit dieser Technik ist für das Jahr 2028 geplant, obwohl ein realistischeres Ziel das Ende des Jahrzehnts ist.

- Die Validierung chinesischer Ausrüstung erfolgt oft schneller als bei westlichen Pendants; manchmal wird alles innerhalb eines Jahres abgeschlossen.

* Software

- Neben der Hardware ersetzt China aktiv ausländische CAD/EDA-Pakete durch eigene Lösungen, die zu einem unverzichtbaren Bestandteil der Produktionskette werden.

Damit setzt die Regierung konkrete Zahlen für die Lokalisierung und schafft gleichzeitig Bedingungen für eine schnelle Einführung neuer Technologien, einschließlich EUV-Scanner und 14‑nm-Lithografie.